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高頻紅外碳硫分析儀下空白試驗

來(lái)源:本站  發(fā)布時(shí)間:2013年05月24日  字體大。[大] [中] [小]

高頻紅外碳硫分析儀下空白試驗

頻紅外碳硫分析儀使用中我們是將錫囊置于坩堝中,將錫囊輕輕壓向坩堝的底部,加入與試樣等量的純鐵和加速劑。處理坩堝并測定含量。

得到空白試驗讀數并利用校準線(xiàn)換算為碳的mg數。

由空白試驗中的碳含量減去純鐵中的碳含量得到空白值。

平均空白值(m1)2個(gè)空白值計算得到。

注:⑴應用校準曲線(xiàn)錫囊制備

錫囊的制備:用微量移液管吸取100μl水注入錫囊)中,在90℃烘干2小時(shí)。

⑵加速劑的加入量,取決于儀器的性能和分析的材料類(lèi)型。一般來(lái)說(shuō),其用量只要試樣充分燃燒即可。

⑶兩個(gè)空白的誤差和平均空白值都不得超過(guò)0.01mg碳,如果異常高,應查明并清除污染源。

引起系統空白的因素很多,不同時(shí)期由于材料批次不同,空白值也不相同,因此在分析低含量樣品前必須進(jìn)行空白校正。下面我們推薦如下的測試空白方法,一般在未求校正值之前測試空白值,用同一瓶氧氣,固定量的助溶劑空白值基本一致,操作方法與求校正值相同。由頻紅外碳硫分析儀結果計算公式可知,為獲得滿(mǎn)意的低含量分析結果,還需注意:測試空白值所鍵入的重量應與實(shí)際測試樣品的重量相同。來(lái)文來(lái)自:南京華欣分析儀器制造有限公司技術(shù)部    m.tadawen.com.cn
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